ng28下载传台积电向ASML下单明年订购最少13台EUV光刻机

发布时间：2024-11-07

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　　据digitimes报道，业内消息称，台积电已经向ASML公司下了2021年至少13台EUV光刻设备的订单。

　　台积电近日公布10月营收为1193.03亿元新台币（单位下同），月增减少6.5%，年增12.5%。前10月合并营收为1兆970.24亿元，年增27.7%。台积电第三季度营收为3564.3亿元，季增14.7%，年增21.6%，创历史新高。税后净利润1373.1亿元，季增13.6%，年增35.9%；每股纯益5.3元，再创历史新高。

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　　SK 海力士在其官网宣布，公司的第四代 10 纳米（1a）级工艺的 8Gigabit（Gb） LPDDR4 移动端 DRAM（动态随机存储器）产品已经在今年 7 月初开始量产。这是 SK 海力士首次采用 EUV 技术进行 DRAM 产品的量产。SK 海力士预计从下半年开始向智能手机厂商供应采用 1a 纳米级技术的移动端 DRAM。记者了解到，Strategy Analytics 机构最新的研究报告显示，2021 年第一季度，全球智能手机存储芯片市场总销售额达到 114 亿美元，同比增长 21%。其中，三星以以 49% 的市场份额排名第一，SK 海力士排名第二，美光位列第三。

　　ASML 公司日前发布2018年Q3季度财报，当季营收27.8亿欧元，净利润6.8亿欧元，出货了5台 EUV光刻机，全年预计出货18台，明年将增长到30台，而且明年下半年会推出新一代的NXE:3400C型光刻机，ng28入口生产能力从现在的每小时125 晶圆提升到155片晶圆以上，意味着产能提升24%。台积电前不久试产了7nm EUV工艺，预计明年大规模量产，三星今天宣布量产7nm EUV工艺，这意味着EUV工艺就要正式商业化了，而全球最大的光刻机公司荷兰ASML为这一天可是拼了20多年。ASML公司日前发布2018年Q3季度财报，当季营收27.8亿欧元，净利润6.8亿欧元，出货了5台EUV光刻机，全年预计出货18台，明年将增长到3

　　作为半导体制造中的核心装备之一，光刻机至关重要，7nm以下工艺所需的EUV光刻机只有ASML公司能生产，ng28入口售价达到10亿以上，不过今年EUV的势头熄火了，DUV光刻机需求反而暴涨。 ASML公司日前发布了Q2季度财报，单季度营收达到69.02亿欧元，同比增长27.10%，环比增长2.31%，接近此前的指引上限并创历史新高。实现净利润19.42亿欧元，同比增长37.62%，环比减少0.72%。公司单季度的毛利率为51.3%，高于指引，同比提升2.2pct，环比提升0.7pct，主要是浸没式DUV设备快速出货带来的；净利率为28.1%，同比提升2.1pct，环比降低0.9pct。在ASML出售的设备中，EUV光刻机的营收占比这次大

　　据businesskorea报道，三星正寻求加强与荷兰半导体设备制造商ASML的技术和投资合作。该报道称，包括CEO Peter Burnink在内的ASML高管于上周访问了三星的半导体工厂，讨论了在EUV光刻机供应和开发方面的合作。 ASML高管与三星副董事长金基南进行了会谈。业内人士认为，三星在此次会谈中要求ASML供应更多的EUV光刻机，并讨论了双方在开发下一代EUV光刻机方面的合作。据悉，三星需要更多的EUV光刻机来扩大其在全球晶圆制造市场的份额。然而，作为世界上唯一的EUV光刻机制造商，ASML向台积电提供的设备要多于三星。因此三星希望与ASML建立技术联盟，以确保下一代EUV光刻机的供应。对于ASML来说，与

　　光源对于光刻机的重要性不言而喻，没有光源的匹配，一切图形成像都无从谈起。从1986年开始，Cymer正式进入半导体产业，目前已有超过3500套光源安装在世界各地的光刻设备上。Cymer所占的市场份额已近70%，俨然已成为世界光源制造领域的领头羊。 “平板电脑和智能手机等新应用激发起了市场的热情，两者的年增长率分别有望超过50%和28%。这股市场热潮极有可能延续至2014年，同样也将驱使半导体新片制造继续快速增长。”Cymer市场及光刻应用副总裁Nigel Farrar表示，“Logic和Foundry将会继续为32/28nm扩大产能，65/45nm产品依然会保持现有的需求。但是我们也看到，由于新技术的成本高，第一梯队与第

　　CNBC 报道称，全球最先进的光刻机厂商荷兰AMSL公司正在开发一种新版本的EUV光刻机，将成为世界上最先进的芯片制造设备。中国现在连EUV光刻机都买不到，所以，对于这种更新型的光刻机，更要警惕。这种光刻机被称为 High NA（高数值孔径）。据称，第一台高 NA 机器仍在开发中，预计从 2023 年开始提供先行体验，以便芯片制造商可以更快地开始验证并学会如何使用。然后，客户可以在 2024 年和 2025 年将以此进行自己的研发工作。从 2025 年开始，它们很可能用于大批量制造。这种NA光刻机可以让芯片制造商研制出更复杂的芯片。光刻机是芯片生产工具，是生产大规模集成电路的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响。小

　　《巴伦》报导，芯片设备供应商艾司摩尔ASML的表现，可能要比大多数人想像的要好，瑞士信贷分析师Farhan Ahmad即认为，艾司摩尔的产品是芯片制造商台积电与竞争对手三星电子( 005930-KR )争夺霸主地位的关键要素，估计可以在鹬蚌相争中，渔翁得利。《巴伦》报导显示，Ahmad 于1 月份便把艾司摩尔股价评级调高至「优于大盘」，Ahmad 并特别指出，「最近对EUV 工具(极紫外光刻Extreme UV，EUV) 的谣言众多。我们的调查表明，EUV 的前景并不是减弱，而是增强。ASML 有望其2019 年EUV 产量订单全满」。他指出，台积电「在4月2日向ASML和Lasertec下了大约10亿美元的订单」

　　载具对于曝光机发挥保护、运送和存储光罩等功能十分重要。家登精密多年来致力于研究曝光机载具，并为全球最大的半导体设备制造商 ASML 提供载具相关技术。下面就随嵌入式小编一起来了解一下相关内容吧。我们主要研究 EUV 的配套技术，例如 EUV 的载具以及 EUV 的配套光罩，是7nm向5nm进阶的突破口。随着5nm技术的升级，EUV的重要性逐渐凸显出来，而载具的研究也越发紧迫。过去几年，家登精密一直专心做一件事，那就是载具的配套研究。ng28入口去年，我们的技术产品已经达到国际先进水平，这是一个值得自豪的成绩。未来，7nm工艺逐渐向5nm升级，技术的研究会越来越困难。封装、3D封装、以及更高级的集成封装，都将会是我们以后关注的技术，

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